鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)膜厚(hou)儀(yi)(yi)(yi),金屬(shu)鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)測厚(hou)儀(yi)(yi)(yi)用來專業測量金、鎳、銅、銀(yin)等金屬(shu)鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)厚(hou)度的標準(zhun)儀(yi)(yi)(yi)器。檢測鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)厚(hou)度也有(you)一(yi)定(ding)要(yao)(yao)求,鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)厚(hou)度要(yao)(yao)求分(fen)散能力(li)(li)(li)是具(ju)有(you)比(bi)較性質(zhi),其比(bi)較的基準(zhun)是初次電流分(fen)布。鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)厚(hou)度要(yao)(yao)求在零(ling)件上均勻分(fen)布的能力(li)(li)(li)越高,該(gai)電鍍(du)(du)溶液的分(fen)散能力(li)(li)(li)就(jiu)越好。所謂整平能力(li)(li)(li)(即(ji)微(wei)觀分(fen)散能力(li)(li)(li))是指在底層(ceng)(ceng)上形成(cheng)鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)時,鍍(du)(du)液所具(ju)有(you)的,天瑞儀(yi)(yi)(yi)器生產(chan)的THICK8000鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)膜厚(hou)儀(yi)(yi)(yi)(金屬(shu)鍍(du)(du)層(ceng)(ceng)測厚(hou)儀(yi)(yi)(yi))打破(po)國外壟斷局面,國產(chan)分(fen)析儀(yi)(yi)(yi)器
鍍(du)層膜厚(hou)儀產品介紹
鍍(du)(du)層(ceng)膜厚儀(yi)(金屬鍍(du)(du)層(ceng)測厚儀(yi))用來專(zhuan)業測量金、鎳、銅(tong)、銀等(deng)金屬鍍(du)(du)層(ceng)厚度(du)的標準(zhun)儀(yi)器。檢測鍍(du)(du)層(ceng)厚度(du)也有一(yi)定要(yao)(yao)求,鍍(du)(du)層(ceng)厚度(du)要(yao)(yao)求分(fen)散能(neng)力是具(ju)有比(bi)較(jiao)性質,其(qi)比(bi)較(jiao)的基準(zhun)是初次電流分(fen)布。鍍(du)(du)層(ceng)厚度(du)要(yao)(yao)求在零件(jian)上均勻分(fen)布的能(neng)力越高,該電鍍(du)(du)溶液的分(fen)散能(neng)力就越好。所謂整平能(neng)力(即(ji)微觀分散能力)是指在底層上形成鍍(du)層時(shi),鍍(du)液所具有的(de),天瑞儀器生產(chan)的(de)THICK8000鍍(du)層膜(mo)厚儀(金屬鍍(du)層測厚儀)打破國外壟斷局(ju)面(mian),國產分析儀器。
鍍(du)層膜厚儀技術指標(biao)
分析元素范(fan)圍(wei):硫(liu)(S)~鈾(U)
同時檢(jian)測元素:zui多24個(ge)元素,多達5層(ceng)鍍層(ceng)
分(fen)析含量(liang):一般為(wei)2ppm到99.9%
鍍層(ceng)厚度:一般在50μm以內(每(mei)種材料有所不同(tong))
SDD探測器(qi):分辨率低至135eV
先進的(de)微孔(kong)準直技術:zui小(xiao)孔(kong)徑達0.1mm,zui小光(guang)斑達0.1mm
樣(yang)品觀察:配備全(quan)景(jing)和局部兩個工業高(gao)清攝像頭
準直(zhi)器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四(si)種(zhong)準(zhun)直器組合
儀器尺寸:690(W)x 575(D)x 660(H)mm
樣(yang)品室尺(chi)寸:520(W)x 395(D)x150(H)mm
樣品臺(tai)尺寸:393(W)x 258 (D)mm
X/Y/Z平臺移(yi)動速度:額(e)定速度200mm/s zui高(gao)速(su)度333.3mm/s
X/Y/Z平臺重復定位(wei)精度:小于0.1um
操作環境濕度:≤90%
操作(zuo)環境(jing)溫度:15℃~30℃
鍍層(ceng)膜厚儀工(gong)作原理
膜厚(hou)儀(yi)又叫膜厚(hou)計、膜厚(hou)測(ce)試儀(yi),可(ke)分(fen)為(wei)磁感應鍍(du)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)、電渦流(liu)鍍(du)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)與熒光X射線(xian)儀鍍層測厚儀。 它的(de)(de)(de)主(zhu)要測量方(fang)法(fa)是采(cai)用磁感應原理時(shi),利用從測頭經過非鐵(tie)磁覆層(ceng)而流入鐵(tie)磁基體(ti)的(de)(de)(de)磁通的(de)(de)(de)大小,來測定覆層(ceng)厚度。也可以(yi)測定與之(zhi)對(dui)應的(de)(de)(de)磁阻的(de)(de)(de)大小,來表示其(qi)覆層(ceng)厚度。
磁性測(ce)厚(hou)法(fa)的(de)膜厚(hou)儀是一種超(chao)小型(xing)測(ce)量儀,它能快速(su),無損(sun)傷(shang),精確地進(jin)行鐵磁性金屬基體(ti)上的(de)噴涂。電鍍層厚(hou)度的(de)測(ce)量。可廣(guang)泛用于(yu)制(zhi)造(zao)業(ye),金屬加工業(ye),化工業(ye),商檢(jian)等檢(jian)測(ce)領域(yu)。特別適用于(yu)工程現場測(ce)量。
二次熒光法的(de)測(ce)厚(hou)儀的(de)原理是物質經X射線或(huo)粒子(zi)射線照射后,由于(yu)吸收多余(yu)(yu)的(de)(de)能量(liang)而變成不穩定的(de)(de)狀(zhuang)(zhuang)態(tai)。從不穩定狀(zhuang)(zhuang)態(tai)要回(hui)到穩定狀(zhuang)(zhuang)態(tai),此物(wu)質必需將多余(yu)(yu)的(de)(de)能量(liang)釋放出來,而此時是以熒(ying)光或(huo)光的(de)(de)形(xing)態(tai)被釋放出來。熒(ying)光X射線鍍(du)層厚(hou)度測量儀或成分(fen)分(fen)析儀的(de)原(yuan)理就(jiu)是測量這被(bei)釋放出來的(de)熒(ying)光的(de)能量及強度,來進行定性和定量分(fen)析。
鍍層膜厚儀性(xing)能優勢(shi)
1.精密的(de)三(san)維移(yi)動平臺
2.的樣品觀測系統
3.先(xian)進的(de)圖像識別(bie)
4.輕松實(shi)現深(shen)槽樣(yang)品的檢測
5.四種微孔聚焦準直(zhi)器,自動(dong)切換
6.雙重保(bao)護措施,實現無縫防撞(zhuang)
7.采(cai)用大面積(ji)高分辨率探測器,有效(xiao)降低檢出限(xian),提高測試精度
全自動智能控制方(fang)式(shi),一(yi)鍵式(shi)操作!
開機自動(dong)自檢、復位(wei);
開(kai)蓋(gai)自動退出樣(yang)品臺,升起Z軸測試平臺,方便放樣(yang);
關蓋推進(jin)樣品臺,下降Z軸測試(shi)平臺并自(zi)動完成對(dui)焦;
直接點擊全景或(huo)局部(bu)景圖(tu)像選(xuan)取測試點;
點擊軟(ruan)件界(jie)面測試按(an)鈕,自動完成(cheng)測試并顯(xian)示結果。